基(ji)于(yu)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)單峰(feng)(feng)(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長移動(dong)(dong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)鍺膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)研(yan)究：在對比研(yan)究目前常(chang)用的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)基(ji)礎上，我們發現(xian)當兩(liang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)非常(chang)小導致其干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)只(zhi)有一個干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)峰(feng)(feng)(feng)時(shi)，常(chang)用的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)基(ji)于(yu)兩(liang)相(xiang)鄰干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)峰(feng)(feng)(feng)間距的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)解調方案(an)(an)不(bu)再適用。為(wei)(wei)此，我們提(ti)出(chu)了(le)(le)適用于(yu)極小光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)基(ji)于(yu)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)單峰(feng)(feng)(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長移動(dong)(dong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)。干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)峰(feng)(feng)(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長會隨著光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)增大出(chu)現(xian)周期(qi)性的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)紅移和藍(lan)移，當光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)在較(jiao)小范圍內變化時(shi)，峰(feng)(feng)(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)移動(dong)(dong)與光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)成(cheng)正比。根據這一原理，搭建了(le)(le)光(guang)(guang)(guang)纖白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)溫度傳感系統對這一測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)解調方案(an)(an)進行驗證，得到了(le)(le)光(guang)(guang)(guang)纖端面半導體(ti)鍺薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度。實(shi)驗結(jie)(jie)果(guo)(guo)顯示鍺膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度為(wei)(wei)，與臺(tai)階(jie)儀(yi)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)結(jie)(jie)果(guo)(guo)存在，這是因(yin)為(wei)(wei)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)表面本身并不(bu)光(guang)(guang)(guang)滑，臺(tai)階(jie)儀(yi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)結(jie)(jie)果(guo)(guo)只(zhi)能作(zuo)為(wei)(wei)參考值(zhi)(zhi)(zhi)。鍺膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)誤差(cha)主要(yao)來(lai)自光(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)長漂(piao)移和溫度控制誤差(cha)。白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技(ji)術(shu)可以實(shi)現(xian)對薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)在線檢測(ce)(ce)(ce)(ce)和控制。高精度膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀(yi)銷售價格

開展白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)涉(she)理論分析，在此基(ji)礎詳細介紹了白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)垂直(zhi)掃描(miao)干(gan)涉(she)技術和(he)(he)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜(pu)技術的(de)基(ji)本(ben)原(yuan)理，完成了應用(yong)于靶(ba)(ba)丸殼(ke)(ke)(ke)層折(zhe)射率和(he)(he)厚(hou)度(du)分布測(ce)(ce)量(liang)(liang)實驗(yan)裝置(zhi)的(de)設(she)計(ji)及搭建。該實驗(yan)裝置(zhi)主要由(you)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜(pu)探測(ce)(ce)模(mo)塊(kuai)、靶(ba)(ba)丸吸(xi)附(fu)轉位(wei)(wei)模(mo)塊(kuai)、三維運動(dong)模(mo)塊(kuai)、氣(qi)浮隔震平臺等幾(ji)部分組成，可(ke)實現(xian)靶(ba)(ba)丸的(de)負(fu)壓吸(xi)附(fu)、靶(ba)(ba)丸位(wei)(wei)置(zhi)的(de)精密調整(zheng)以及靶(ba)(ba)丸360°范圍的(de)旋轉及特定(ding)角度(du)下靶(ba)(ba)丸殼(ke)(ke)(ke)層白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜(pu)的(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)。基(ji)于白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)垂直(zhi)掃描(miao)干(gan)涉(she)和(he)(he)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜(pu)的(de)基(ji)本(ben)原(yuan)理,建立(li)了二者(zhe)聯用(yong)的(de)靶(ba)(ba)丸殼(ke)(ke)(ke)層折(zhe)射率測(ce)(ce)量(liang)(liang)方法(fa)，該方法(fa)利用(yong)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜(pu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)靶(ba)(ba)丸殼(ke)(ke)(ke)層光(guang)(guang)學厚(hou)度(du)，利用(yong)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)垂直(zhi)掃描(miao)干(gan)涉(she)技術測(ce)(ce)量(liang)(liang)光(guang)(guang)線(xian)通過靶(ba)(ba)丸殼(ke)(ke)(ke)層后(hou)的(de)光(guang)(guang)程增量(liang)(liang)，二者(zhe)聯立(li)即可(ke)求得靶(ba)(ba)丸折(zhe)射率和(he)(he)厚(hou)度(du)數(shu)據(ju)。湖(hu)南防水(shui)膜(mo)厚(hou)儀(yi)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)涉(she)膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)技術可(ke)以實現(xian)對薄膜(mo)的(de)快速測(ce)(ce)量(liang)(liang)和(he)(he)分析。

確定(ding)靶丸折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)算法(fa)(fa)(fa)，由于干涉光(guang)譜信號與膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)參量直(zhi)接相(xiang)關(guan)，這里主(zhu)要考慮(lv)光(guang)譜分(fen)析(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)方(fang)法(fa)(fa)(fa)根據(ju)測量膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)反射(she)(she)或透射(she)(she)光(guang)譜進行(xing)分(fen)析(xi)計算，可獲得(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)、折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)等參數(shu)。根據(ju)光(guang)譜信號分(fen)析(xi)計算膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)方(fang)法(fa)(fa)(fa)主(zhu)要有極值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)(fa)和包絡法(fa)(fa)(fa)、全(quan)光(guang)譜擬合法(fa)(fa)(fa)。極值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)(fa)測量膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)主(zhu)要是根據(ju)薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)反射(she)(she)或透射(she)(she)光(guang)譜曲線上的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)波峰(feng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置(zhi)來計算，對(dui)(dui)于弱色(se)(se)散(san)介質(zhi)，折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)為恒(heng)定(ding)值(zhi)(zhi)(zhi)，根據(ju)兩個或兩個以上的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)極大值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置(zhi)，求得(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)學(xue)厚(hou)(hou)度(du)，若已知(zhi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)即可求解膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)；對(dui)(dui)于強(qiang)色(se)(se)散(san)介質(zhi)，首(shou)先利用(yong)極值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)求出(chu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)初始值(zhi)(zhi)(zhi)。薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)是一恒(heng)定(ding)不變(bian)值(zhi)(zhi)(zhi)，可根據(ju)極大值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)位置(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)學(xue)厚(hou)(hou)度(du)關(guan)系(xi)式獲得(de)入射(she)(she)波長(chang)和折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)對(dui)(dui)應關(guan)系(xi)，再依(yi)據(ju)薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)材質(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)(se)散(san)特性，引入合適的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)(se)散(san)模(mo)(mo)型，常用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)(se)散(san)模(mo)(mo)型有cauchy模(mo)(mo)型、Selimeier模(mo)(mo)型、Lorenz模(mo)(mo)型等，利用(yong)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)與入射(she)(she)波長(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)關(guan)系(xi)式，通過二乘(cheng)法(fa)(fa)(fa)擬合得(de)到色(se)(se)散(san)模(mo)(mo)型的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)系(xi)數(shu)，即可解得(de)任意入射(she)(she)波長(chang)下的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)折(zhe)(zhe)射(she)(she)率(lv)。

目前，應用(yong)的(de)顯(xian)微干涉(she)方式主(zhu)要有(you)(you)Mirau顯(xian)微干涉(she)和(he)Michelson顯(xian)微干涉(she)兩張方式。如(ru)圖(tu)2-5(a)所示Mirau型顯(xian)微干涉(she)結(jie)構，在該(gai)結(jie)構中物(wu)鏡(jing)和(he)被(bei)測(ce)樣(yang)品之間有(you)(you)兩塊平(ping)板，一個是涂覆有(you)(you)高反射(she)膜(mo)的(de)平(ping)板作為(wei)(wei)參(can)(can)考(kao)鏡(jing)，另一塊涂覆半透(tou)半反射(she)膜(mo)的(de)平(ping)板作為(wei)(wei)分(fen)光棱(leng)鏡(jing)，由于(yu)參(can)(can)考(kao)鏡(jing)位于(yu)物(wu)鏡(jing)和(he)被(bei)測(ce)樣(yang)品之間，從(cong)而(er)使(shi)物(wu)鏡(jing)外(wai)殼(ke)更加緊湊(cou)，工作距離相對(dui)而(er)言短一些，其倍率一般為(wei)(wei)10-50倍，Mirau顯(xian)微干涉(she)物(wu)鏡(jing)參(can)(can)考(kao)端使(shi)用(yong)與測(ce)量端相同顯(xian)微物(wu)鏡(jing)，因(yin)此沒有(you)(you)額(e)外(wai)的(de)光程差。白光干涉(she)膜(mo)厚測(ce)量技術可以應用(yong)于(yu)半導體制(zhi)造(zao)中的(de)薄膜(mo)厚度控制(zhi)。

干(gan)涉法(fa)(fa)作(zuo)為(wei)面(mian)掃描方式(shi)可以(yi)一次(ci)性對(dui)薄(bo)膜(mo)局域內的(de)厚(hou)(hou)度(du)進行解(jie)算，適用于對(dui)面(mian)型(xing)整體(ti)形(xing)貌(mao)特(te)征要求較(jiao)高的(de)測量對(dui)象。干(gan)涉法(fa)(fa)算法(fa)(fa)在于相位信息的(de)提取，借助多種復(fu)合算法(fa)(fa)通常可以(yi)達到納米級的(de)測量準確度(du)。然(ran)而主動(dong)(dong)干(gan)涉法(fa)(fa)對(dui)條紋穩定(ding)性不(bu)(bu)佳，光學(xue)元件(jian)表面(mian)的(de)不(bu)(bu)清潔、光照度(du)不(bu)(bu)均(jun)勻、光源(yuan)不(bu)(bu)穩定(ding)、外界(jie)氣流震動(dong)(dong)干(gan)擾等因素均(jun)可能(neng)影響干(gan)涉圖(tu)的(de)完整性[39]，使(shi)干(gan)涉圖(tu)樣中包含噪聲和(he)部(bu)分(fen)區域的(de)陰影，給后期處理(li)帶來困難。除此之(zhi)外，干(gan)涉法(fa)(fa)系統(tong)精度(du)的(de)來源(yuan)——精密移動(dong)(dong)及定(ding)位部(bu)件(jian)也增加了系統(tong)的(de)成本，高精度(du)的(de)干(gan)涉儀往往較(jiao)為(wei)昂貴。白光干(gan)涉膜(mo)厚(hou)(hou)測量技術可以(yi)對(dui)薄(bo)膜(mo)的(de)厚(hou)(hou)度(du)、反射(she)率、折射(she)率等光學(xue)參數(shu)進行測量。有哪些(xie)膜(mo)厚(hou)(hou)儀大(da)概價格多少

白光(guang)干涉(she)膜厚(hou)測(ce)量技術可(ke)以通過(guo)對干涉(she)曲線的分析(xi)實現對薄膜的厚(hou)度測(ce)量。高精度膜厚(hou)儀(yi)銷(xiao)售價(jia)格

干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)法與分光光度(du)(du)法都(dou)是利用(yong)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)(gan)光形成(cheng)(cheng)等(deng)厚(hou)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)條紋的(de)(de)(de)原(yuan)理來(lai)確定薄膜(mo)厚(hou)度(du)(du)和(he)(he)折射率，然而(er)與薄膜(mo)自發產生的(de)(de)(de)等(deng)傾干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)不同(tong)，干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)法是通過設置參(can)(can)考(kao)光路，形成(cheng)(cheng)與測量(liang)光路間(jian)(jian)的(de)(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)條紋，因(yin)此其相(xiang)(xiang)(xiang)位信(xin)(xin)息(xi)包(bao)含兩個部(bu)分，分別是由(you)參(can)(can)考(kao)平(ping)面(mian)和(he)(he)測量(liang)平(ping)面(mian)間(jian)(jian)掃(sao)描高度(du)(du)引起的(de)(de)(de)附加相(xiang)(xiang)(xiang)位和(he)(he)由(you)透明薄膜(mo)內部(bu)多次反射引起的(de)(de)(de)膜(mo)厚(hou)相(xiang)(xiang)(xiang)位。干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)法測量(liang)光路使用(yong)面(mian)陣(zhen)CCD接收參(can)(can)考(kao)平(ping)面(mian)和(he)(he)測量(liang)平(ping)面(mian)間(jian)(jian)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)(gan)波面(mian)的(de)(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)(she)光強分布，不同(tong)于(yu)以上三(san)種(zhong)點測量(liang)方式，可一次性生成(cheng)(cheng)薄膜(mo)待測區域的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)形貌信(xin)(xin)息(xi)，但(dan)同(tong)時由(you)于(yu)存在大量(liang)軸向(xiang)掃(sao)描和(he)(he)數據(ju)解算，完成(cheng)(cheng)單次測量(liang)的(de)(de)(de)時間(jian)(jian)相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)較(jiao)長。高精度(du)(du)膜(mo)厚(hou)儀銷售價格(ge)

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